FAP Plasmatechnik FAP Forschungs- und Applikationslabor Plasmatechnik GmbH Dresden
 
Amorphes Silizium (a-Si:H)


Charakteristika des PECVD- Prozesses

Hydrogenisiertes amorphes Silizium für elektronisch aktive Schichten werden bei Temperaturen von 180 bis 300 °C abgeschieden. Der FAP-Prozess wurde für große Substratflächen und hohe Depositionsraten mit Anregungsfrequenzen im unteren VHF-Bereich (40.68 bis 80 MHz) entwickelt. Die VHF-Anregung ermöglicht im Vergleich zur üblichen 13,56 MHz-Anregung eine Reduzierung der Teilchenenergie und damit des Substratbeschusses sowie eine Erhöhung der Plasmadichte. Auf diese Weise lassen sich a-Si:H-Schichten mit guten photoelektrischen Eigenschaften bei hohen Depositionsraten abscheiden.
Die Depositionstechnologie ist mit der Reaktorreinigungstechnologie kompatibel.


Anwendung

• Fotoleiter für die Elektrophotografie
• Absorber für Solarzellen
• Aktive Schichten für TFT für AM LCD
• Absorber für ungekühlte Mikrobolometer
  Gestell


Ausrüstung

• Parallel-Platten- oder Koaxial-Reaktoren
• Reaktoren VPE 300/1000, VPE 300/1000 HT, VPM 600/2500 HAT,
  VPE 1400/10000
• Modul zur PECVD bei kontinuierlicher Substratbewegung VEM 300 D
• Modul zur magnetfeldgestützten PECVD im Koaxial-System TR 500


Wesentliche Eigenschaften von Prozess und Schicht

Prozess:

• Umsetzung von Monosilan in Wasserstoff
• Dotierung mit Diboran, TEB, TMB oder Phosphin
• Anregungsfrequenzen 13,56, 27,12, 40,68 und 80 MHz
• Substrattemperatur 190 - 250 °C
• Abscheideraten bis 3 nm/s
• In situ plasmachemische Reaktorreinigung mit SF6/O2


Schicht:

Defektdichte (CPM) < 5 · 1016 cm-3
   
Urbachenergie (CPM) < 55 meV
   
Fotoleitung (AM 1,5) > 5 · 10-5 S/cm
   
Dunkelleitung < 1 · 10-10 S/cm






 
PRODUKTE

Sie möchten gern mehr über unsere Produkte erfahren? Dann schauen Sie hier. mehr...

 
LEISTUNGEN

Hier erfahren Sie alles weitere über die Leistungen der FAP GmbH Dresden Leistungen. mehr...

 
KONTAKT

FAP GmbH Dresden
Gostritzer Str. 67 B
01217 Dresden

Tel.: + 49 351 8718110
Fax: + 49 351 8718416
E-Mail: fap.gmbh@online.de



 
 
Forschungs- und Applikationslabor Plasmatechnik GmbH Dresden