FAP Plasmatechnik FAP Forschungs- und Applikationslabor Plasmatechnik GmbH Dresden
 
Helix-Plasmaquelle HP 100


Anwendung

• PECVD von Silizium-Legierungen bei
  Temperaturen bis 300 °C
• Plasmalackentfernung
• Plasmabehandlung organischer
  Materialien
• Plasmaätzen, Plasmaaktivierung
• Plasmaimmersions-Ionenimplantation
• Ebene Substrate mit Durchmesser bis
  etwa 150 mm
• F&E und Fertigung


Aufbau

• Plasmaquelle mit koaxialem Helix-Resonator
• Integrierte automatische Anpassung und VHF/HF-Generator
• Gasversorgungssystem
• Substratelektrode und Vakuumkammer optional
• Einbau- oder Anbauausführung


Wesentliche Merkmale und Funktionsweise

• Hochrate-Bearbeitung mittels induktiv-kapazitver Einkopplung
• Anregung mit Frequenz von 40,68 MHz
• Ausführung in Edelstahl mit Metalldichtung oder Aluminium mit
  Elastomerdichtung
• Magnetfeldverstärkung optional
• Array-Anordnung optional


Technische Daten

Plasmastrahldurchmesser Ø 100 mm mit Inhomogenität der Plasmadichte von =± 5%
   
Ionenenergie 3 - 5 eV
   
Plasmadichte für Stickstoff,
0,3 - 30 Pa
(1 - 2) 1010 cm-3
   
Arbeitsdruck 0,1 - 500 Pa
   
Flansch DN 160
   
Montage Face down, face up, vertical
   
Arbeitsdruck 0,1 - 1 mbar
   
Kühlung Mit Luft
   
Prozessgase SiH4, Dotantenhydride, NH3, H2, SF6 u.a.






 
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