FAP Plasmatechnik FAP Forschungs- und Applikationslabor Plasmatechnik GmbH Dresden
 
Elektrodensysteme für die Bearbeitung von:


Wafer

VHF-Elektrode für Hochtemperatur-PECVD VPE 150 HT

VHF-PECVD-Reaktor mit Gasdichtung VPM 200

VHF-PECVD-Modul mit Heliumkopplung VPM 200-He

VHF-PECVD-Modul für Batch-Bearbeitung VPM 360

VHF-Elektrode für Hochtemperatur-PECVD VPE 100 HT


Platten

VHF-PECVD-Elektrode für plattenförmige Substrate VPE 300/1000

VHF-PECVD-Elektrode für plattenförmige Substrate VPE 300/1000 HT

VHF-PECVD-Reaktor mit Gasdichtung VPM 600/2500 HT

VHF-PECVD-Großflächen-Elektrode VPE 1400/10000


Bändern sowie Wafer oder Platten im kontinuierlichen Regime

VHF-Linear-PECVD-Modul VEM 300 D

VHF-Linear-Hochtemperatur-PECVD-Modul VPEC 750 HT
 
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KONTAKT

FAP GmbH Dresden
Gostritzer Str. 67 B
01217 Dresden

Tel.: + 49 351 8718110
Fax: + 49 351 8718416
E-Mail: fap.gmbh@online.de



 
 
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