FAP Plasmatechnik FAP Forschungs- und Applikationslabor Plasmatechnik GmbH Dresden
 
VHF-PECVD-Großflächenelektrode VPE 1400/10000


Anwendung

• PECVD von Silizium-Legierungen bei
  Temperaturen bis 250 °C auf
  Platten/Carrier mit Flächen bis 1 m2
• Gasphasendotierung mit
  Dotantenhydriden
• Plasmapolymerisation


Aufbau und Lieferumfang

• HF/VHF-Elektrode mit
  Leistungsversorgung, Gasdusche
  und Thermostatierung
• Carrier
• Gasversorgungssystem (optional)


Wesentliche Merkmale und Funktionsweise

• Integrierbar in Vakuumkammer mit oder ohne Heizung,
  Substrathalterung face up oder vertikal
• Geeignet für Anregungsfrequenzen bis 40.68 MHz und hohe
  Leistungsdichten
• Definierte Entladungsraumbegrenzung
• Elektrodenausführung in Aluminium
• Plasmachemische Reaktorreinigung


Technische Daten

Substratabmessungen bis 900 mm x 1500 mm
   
Leistungsversorgung 13,56; 40,68;  4000 - 8000 W
   
Substratelektroden
Oberflächentemperatur
bis 250 °C, je nach Elektrodenausführung
   
Elektrodenabstand
manuell einstellbar
über Abstandselemente
   
Arbeitsdruck 0,05 - 10 mbar
   
Prozessgase SiH4, Dotantenhydride, H2, SF6 u.a. Monomere
   
Leckrate < 10-4 mbar l/s
   
Schichtdicken-Inhomogenität < ± 5 - 10%





 
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