FAP Plasmatechnik FAP Forschungs- und Applikationslabor Plasmatechnik GmbH Dresden
 
HF/VHF-Elektrode für plattenförmige Substrate
VPE 300/1000 HT



Anwendung

• VHF-PECVD von Silizium-Legierungen
  bei Temperaturen bis 600 °C
  auf Platten mit Abmessungen bis
  300 mm x 300 mm


Aufbau und Lieferumfang

• HF/VHF-Elektrode mit 
  Leistungsversorgung, Gasdusche und Thermostatierung
• Gasversorgungssystem (optional)


Wesentliche Merkmale und Funktionsweise

• Integrierbar in Vakuumkammer mit Substratelektrode,
  Substrathalterung face up, face down oder vertikal
• Geeignet für Anregungsfrequenzen bis 60 MHz und hohe
  Leistungsdichten
• Definierte Entladungsraumbegrenzung
• Elektrodenausführung in Edelstahl


Technische Daten

Substratabmessungen bis 300 mm x 300 mm
   
Leistungsversorgung 13,56; 40,68;  60 oder 80 MHz, 1200 W
   
Substratelektroden
Oberflächentemperatur
bis 600 °C
   
Elektrodenabstand manuell einstellbar über Abstandselemente
   
Arbeitsdruck 0,05 - 10 mbar
   
Prozessgase SiH4, Dotantenhydride, H2 u.a.
   
Leckrate < 10-4 mbar l/s




 
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