FAP Plasmatechnik FAP Forschungs- und Applikationslabor Plasmatechnik GmbH Dresden
 
VHF-PECVD-Elektrode für plattenförmige Substrate
VPE 300/1000



Anwendung

• VHF-PECVD von Silizium-Legierungen
  bei Temperaturen bis 300 °C
  auf Platten mit Abmessungen bis
  300 mm x 300 mm
• Plasmachemisches Ätzen
• Plasmachemische Reaktorreinigung


Aufbau und Lieferumfang

• HF/VHF-Elektrode mit Leistungsversorgung, Gasdusche und
  Thermostatierung
• Gasversorgungssystem (optional)


Wesentliche Merkmale und Funktionsweise

• Integrierbar in Vakuumkammer mit Substratelektrode,
  Substrathalterung face up oder vertikal
• Geeignet für Anregungsfrequenzen bis 60 MHz und hohe
  Leistungsdichten
• Definierte Entladungsraumbegrenzung
• Elektrodenausführung in Aluminium


Technische Daten

Substratabmessungen bis 300 mm x 300 mm
   
Leistungsversorgung 13,56; 40,68;  60 oder 80 MHz, 1200 W
   
Substratelektroden
Oberflächentemperatur
bis 300 °C
   
Elektrodenabstand manuell einstellbar über Abstandselemente
   
Arbeitsdruck 0,05 - 10 mbar
   
Prozessgase SiH4, Dotantenhydride, H2 u.a.
   
Leckrate < 10-4 mbar l/s


 
PRODUKTE

Sie möchten gern mehr über unsere Produkte erfahren? Dann schauen Sie hier. mehr...

 
LEISTUNGEN

Hier erfahren Sie alles weitere über die Leistungen der FAP GmbH Dresden Leistungen. mehr...

 
KONTAKT

FAP GmbH Dresden
Gostritzer Str. 67 B
01217 Dresden

Tel.: + 49 351 8718110
Fax: + 49 351 8718416
E-Mail: fap.gmbh@online.de



 
 
Forschungs- und Applikationslabor Plasmatechnik GmbH Dresden